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微纳增材

Additive Manufacturing






压电喷涂系统UAI120/130

UAI120/130系列压电喷涂仪系统,采用封闭式桌面型整体设计,结构紧凑并且采用自主开发的精密薄膜制备技术,结合精密运动控制,可实现高性能薄膜制备。产品主要应用于新型薄膜太阳能电池开发、燃料电池、透明导电薄膜、MEMS光刻胶涂覆研究等领域。
 
例如:纳米银线薄膜制备、PEDOT:PSS薄膜制备、石墨烯涂层制备、钙钛矿涂层制备等。
产品详情


 
产品特性    各工艺参数一体化控制,操作简便
   设备将操作控制集成一体化,整体结构紧凑
   单层薄膜厚度300μm-20μm
   薄膜均匀性优于10%
   材料粘附力强,优于4B(具体根据材料确定)
   可选配多种超声喷头
   精密三轴伺服运动,运动精度优于0.05mm
   精密激光对位系统,完成快速位置标定
   配置精密恒流供料系统以及微气流控制系统
   配置精密加热台,可实现在线吸附、在线烧结
   配置真空吸附台,可满足柔性基底使用需求
   自带喷涂腔体环境监控及优化功能
 
应用参数    方阻50Qcm/sq情况下,涂层透光率在82%以上    光刻胶(RZJ-304)双层平均厚度15um,图层均匀性13.2%

 


 
产品特性    各工艺参数一体化控制,操作简便
   设备将操作控制集成一体化,整体结构紧凑
   单层薄膜厚度300μm-20μm
   薄膜均匀性优于10%
   材料粘附力强,优于4B(具体根据材料确定)
   可选配多种超声喷头
   精密三轴伺服运动,运动精度优于0.05mm
   精密激光对位系统,完成快速位置标定
   配置精密恒流供料系统以及微气流控制系统
   配置精密加热台,可实现在线吸附、在线烧结
   配置真空吸附台,可满足柔性基底使用需求
   自带喷涂腔体环境监控及优化功能
 
应用参数    方阻50Qcm/sq,情况下,涂层透光率在82%以上。    光刻胶(RZJ-304)双层平均厚度15um,图层均匀性13.2%